centrotherm 真空焊接炉，退火炉，扩散炉，氧化炉

敝司代理centrotherm的各种炉子，比如

1.真空焊接炉c.VLO-Series适用大批量的生产，焊接过程中的温度范围可高达450°C以上，客户应用领域涵盖：MEMS，Mosfet、IGBT，先进的封装和光电领域。

2.扩散炉c.Verticoo Mini /c.Verticoo200多达5层堆叠的石英或碳化硅工艺炉管，可灵活选配工艺炉管，每个炉管之间不存在热干扰，先进的水冷却系统，一体化炉管控制系统。

3.PECVD/LPCVD的c.Horicoo200/300系统是管式系统，采用平行式石墨舟和低频（40KHZ)激发等离子体放电。在低压和高温的条件下，等离子体在石墨舟的石墨电极之间激发。对硅片具有表面钝化和体钝化的双重功能。

4.氧化炉c.OXIDATOR150工艺温度从900℃到1500℃，高氧化质量，N2O和NO氧化物氮化，占地面积小，所有无金属加热器和绝缘

批量可达50片晶圆，现场氯气清洗。

5.退火炉c.Activator150/c.RAPID200高激活率，极小表面粗糙度(需适当的C-cap)，高温度可达2000 °C，能持续运行≤1600 °C，升温速率高达100 K/min，批量处理2“,3“,100 mm,150 mm碳化硅晶圆，批量一次工艺可达50片(150 mm)，真空<10-3 mbar(选配)，温度自动校准。